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陕西钛靶,高纯钛靶,真空镀膜钛靶 西安思泰

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产品/服务: 钛靶,高纯钛靶,真空镀膜钛靶 
品 牌: 威特 
型 号: 各种 
规 格: 70*70等 
单 价: 200.00元/公斤  询价
最小起订量: 10 公斤  订购
供货总量: 10000 公斤
发货期限: 自买家付款之日起 3 天内发货
有效期至: 长期有效
最后更新: 2018-10-26
浏览次数: 26
公司基本资料信息






 
 
产品详细说明
 高纯钛靶   真空镀膜钛靶

规格   直径30-100mm

    纯度是靶材的主要性能指标之一,因为靶材的纯度对薄膜的性能影响很大。不过在实际应用中,对靶材的纯度要求也不尽相同。例如,随着微电子行业的迅速发展,硅片尺寸由6", 8"发展到12", 而布线宽度由0.5um减小到0.25um,0.18um甚至0.13um,以前99.995%的靶材纯度可以满足0.35umIC的工艺要求,而制备0.18um线条对靶材纯度则要求99.999%甚至99.9999%。

杂质含量

    靶材固体中的杂质和气孔中的氧气和水气是沉积薄膜的主要污染源。不同用途的靶材对不同杂质含量的要求也不同。例如,半导体工业用的纯铝及铝合金靶材,对碱金属含量和放射性元素含量都有特殊要求。

密度

    为了减少靶材固体中的气孔,提高溅射薄膜的性能,通常要求靶材具有较高的密度。靶材的密度不仅影响溅射速率,还影响着薄膜的电学和光学性能。靶材密度越高,薄膜的性能越好。此外,提高靶材的密度和强度使靶材能更好地承受溅射过程中的热应力。密度也是靶材的关键性能指标之一。

晶粒尺寸及晶粒尺寸分布

通常靶材为多晶结构,晶粒大小可由微米到毫米量级。对于同一种靶材,晶粒细小的靶的溅射速率比晶粒粗大的靶的溅射速率快;而晶粒尺寸相差较小(分布均匀)的靶溅射沉积的薄膜的厚度分布更均匀。

用途   主要用于电镀,离子镀,真空镀膜装饰和功能镀膜工业、平面显示工业、光数据存储工业(光盘工业)光通讯工业、玻璃镀膜(建筑玻璃和汽车玻璃)工业等行业.

包装   按客户要求

公司拥有先进的管理体制;成熟的加工工艺与完善的质保体系。我们的产品广泛用于化工、石油、化肥、印染、电镀、镀模、医疗等行业,并得到各行业的认可和好评。公司将继续坚持以质量求生存,技术求发展,管理创效益,内强素质,外塑形象,始终坚持以产品质量为关注焦点,全员努力,确保所有产品做到客户满意。

 
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